

PC-1000 专为半导体先进工艺晶圆背气控压系统开发,领先的超紧凑架构, 1.125inch 机身内集成了高精度薄膜电容式压力计、高精度质量流量计,为高集成度、高精度的多区晶圆背气系统提供了下一代技术。
支持用外接压力传感器信号进行控制,可实现对真空系统任意指定位置进行高精度、快响应的压力控制。支持针对特殊场景的算法定制,帮助客户实现理想的压力控制效果。
可满足静电吸附、真空吸附等卡盘背气压力控制场景,支持模拟量、RS485、DeviceNet、EtherCAT等通信协议,支持VCR,IGS (CSEAL/WSEAL)各类接口方式,平滑替代行业产品。
控制响应时间 300~3000ms 可配置,可根据工艺应用场景灵活匹配,工艺窗口宽。超调量 < 0.5% F.S, 降低晶圆吹飞风险。采用基于模型的智能压力控制算法,搭配快速精准的压电陶瓷阀,响应时间、超调量、抗扰动等关键控制特性均优于传统 PID 控制。
采用薄膜电容规芯体,长期漂移显著优于传统硅压阻式压力传感器,满量程有 5/10/20/50/100Torr 多种选择,测量精度达 + 0.5% R.P.,可实现 0.05~100 Torr 压力的测量与控制。全系列产品标配法量传感器,实现流量的精准测量,流量精度高达 ±1% R.P.。
| 性能 | PC-1000 |
|---|---|
| 全量程压力 | 5 ~ 100 Torr |
| 压力精度 | ±0.5% R.S. (S.P. ≥ 10% F.S.) ±0.05% F.S. (S.P. < 10% F.S.) |
| 压力零点的温度敏感性 | ±0.02% F.S.℃ |
| 压力满点的温度敏感性 | ±0.04% R.S./℃ |
| 全量程流量 (N₂等效) | 10 ~ 2000 SCCM |
| 流量测量精度¹* | ±1.0% R.S. (R.S. ≥ 20% F.S.) ±0.2% F.S. (R.S.< 20% F.S.) |
| 响应时间³* | <1000 ms (不含系统时间常数) |
| 压力控制范围 | 1 ~ 100% F.S. |
| 最大工作压力 | 350 kPa (A) |
| 工作温度 | 5~50℃ |
| 闭阀内漏³* | <0.01 SCCM (零内漏款< 1x10⁻⁴ SCCM,典型场景闭阀升压速率< 0.1Torr/min) |
| 外漏 (He) | < 1x10⁻¹¹ Pa·m³/ s |
| 与气体接触材料 | 316L VIM/VAR(符合 SEMI F20 UHP 标准),哈氏合金,氟橡胶, PFA |
| 与气体接触表面粗糙度 | Ra 0.13 μm, EP |
| 通信协议 | Analog / RS485 / DeviceNet / EtherCAT |
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