
多类半导体工艺需要将混合后的工艺气体按照精确的比例分配到腔室的多个目标区域,同时需要在工艺过程中精确、快速、宽域地实现比例调控。蓝动精密推出了满足半导体工艺要求的多通道流量比例控制器--TARGETS系列,旨在实现工艺气体的高效分配和比例控制。TARGETS采用了自研的高精度流量测量单元和先进的阀门控制算法。可以实现精确、快速的流量比例调节,比例调节范围高达20:1。同时,TARGETS系列可支持多通道(>4)定制型号,为客户工艺开发提供了更广阔选择。
获取报价通道数量、流量满量程、分流比例、响应时间等关键技术规格支持定制化,同时可支持 DeviceNET,EtherCAT 等多种通信协议在定制版本实现,为半导体客户提供独特竞争优势。
典型工况控制稳定时间 <2s (支持 < 1s 超快响应定制版本),动态抗扰控制算法在总流量变化时,依然能快速稳定分流比例。
前级流量、压力变化,仍然维持精确的比例;采用全金属密封、与气体接触材料及材料表面处理满足SEMIF20F19标准;核心零部件采用哈氏合金,具备超强耐腐蚀性,应对各种严苛特殊工艺气体环境仍可稳定可靠运行。
流量比例调节范围从 1:20 到 20:1, 任意调节,同时根据客户需求可定制超宽比例控制 (如 100:1 以上) 版本。
| 性能 | TARGETS-N | |||
|---|---|---|---|---|
| 通道数量 | 2 | 3 | 4 | N 路分体式 |
| 全量程流量(N₂等效) | 500, 1000, 2000, or 10000 SCCM(N> 4量程支持定制) | |||
| 流量比例精度 | ± 2% S.P. ( 通道流量 >10% F.S.) | |||
| 流量比例重复性 | ± 0.3% F.S. | |||
| 响应时间 | ≤ 2 s(支持更快速响应定制版本) | |||
| 流量比例控制范围 | 0 or 5 ~ 100% F.S. | |||
| 工作温度 | 15 ~ 60° C | |||
| 闭阀内漏 | < 1% F.S. (500 Torr D) | |||
| 外漏 (He) | < 1×10⁻¹¹ Pa·m³/s | |||
| 工作压差 | ≤ 150 Torr(满量程500/1000/2000SCCM) ≤ 450 Torr(满量程10SLM) 测试工况:每个通道当前流量为满量程N2 |
|||
| 出口压力 | ≤ 200 Torr | |||
| 最大允许入口压力 | 150 PSIG | |||
| 最大允许出口压差 | 50 Torr (当每路流量比例相等时) | |||
| 与气体接触材料 | 316L VIM/VAR (符合SEMI F20 UHP标准), 哈氏合金 | |||
| 与气体接触表面粗糙度 | Ra 0.13 μm, EP | |||
| 气路接口 | 1/4" VCR | |||
| 通信协议 | DeviceNet/EtherCAT | |||
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